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半直接结合镁铬砖

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半直接结合镁铬砖

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  • 发布日期:2019/03/14
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详细介绍

半直接结合镁铬砖

镁铬砖产品

为形成直接结合,镁砖厂家原料的SiO2含量要低,必须提高烧成温度。现有的直接结合镁铬砖的SiO2含量一般小于2%,烧成温度在1700~1800℃之间。直接结合的形成是一个溶解-沉析过程。增加铬精矿细粉含量,有利于直接结合的形成。因此,在配料中必须注意铬精矿细粉配比。有硅酸盐存在时,方镁石-方镁石间的结合会被Cr2O3所加强,而被Al2O3和Fe2O3所降低;在镁铬砖中加入Al2O3或Fe2O3可降低硅酸盐熔点,加入Cr2O3则提高熔点。因此采用Cr2O3含量高的铬矿较Cr2O3含量低的铬矿有更高的高温强度。次生尖晶石是直接结合砖的特征。Cr2O3含量越高,晶内和晶间尖晶石越多,制品强度越高,抗渣性越强。

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